清溢一直奉行技術先導的發展政策，公司成立之初，國內制作大面積光掩模的技術和人才完全空白。在沒有任何外來技術援助的情況下，清溢科研人員在成立的第二年，就成功研制了國內首張大面積高精度鉻版掩膜版。經過十余年的自主創新和人才培養，形成了完全自主的核心技術和人才團隊。

        公司于2002年成立光掩模技術研究開發中心，并于2007年經深圳市科技和信息局批準成立依托于清溢的“深圳市光掩模技術研究開發中心”。

        目前，清溢研發中心，正以“激活內腦、用活外腦”為方針，走產、學、研相結合的道路，聯合國內外相關企業和科研機構開創新技術來源，通過不斷的自主科技創新，推動中國高精度大面積掩膜版制造行業趕超國際一流水平。